这种特性被称为负折射，这意味着折射率——光可以穿过给定材料的速度——在所有角度的电磁光谱的一部分中都是负的。
纳米晶格的扫描电子显微镜 (SEM) 图像
折射是材料的共同属性；想想一杯水中的吸管似乎移到一边的方式，或者眼镜中的镜片聚焦光线的方式。但负折射不仅仅涉及将光线向一侧移动几度。相反，光线以与其进入材料的角度完全相反的角度发送。这在自然界中尚未观察到，但从 1960 年代开始，理论上被认为发生在所谓的人工周期性材料中，即构造成具有特定结构模式的材料。直到现在，制造工艺才赶上理论，使负折射成为现实。
负折射对纳米光子学的未来至关重要，纳米光子学旨在理解和操纵光在尽可能小尺度上与材料或固体结构相互作用时的行为。
这种新材料通过结合纳米和微米尺度的组织以及通过时间和劳动密集型工艺添加薄金属锗膜涂层来实现其不同寻常的特性。Greer 是创造这种纳米结构材料的先驱，这种材料的结构设计和组织在纳米尺度上，因此表现出不寻常的、经常令人惊讶的特性——例如，可以弹回原始形状的超轻陶瓷，像海绵一样，被压缩后。
在电子显微镜下，这种新材料的结构类似于空心立方体的格子。每个立方体是如此之小，以至于构成立方体结构的梁的宽度比人类头发的宽度小 100 倍。晶格是使用聚合物材料构建的，这种材料在 3D 打印中相对容易使用，然后涂上金属锗。
结构和涂层的结合赋予了晶格这种不同寻常的特性。通讯作说。研究团队通过艰苦的计算机建模过程（以及天竺葵是一种高折射率材料的知识），将立方体晶格结构和材料作为正确的组合。
为了使聚合物以这种规模均匀地涂上金属，研究团队需要开发一种全新的方法。后，研究人员使用溅射技术，用高能离子轰击锗圆盘，将锗原子从圆盘上喷射到聚合物晶格表面。要获得均匀的涂层并不容易，优化这个过程需要很长时间和很多努力。
该技术在电信、医学成像、雷达伪装和计算方面具有潜在应用。
在 1965 年的观察中，相关人员预测，集成电路每两年就会变得复杂两倍，成本降低一半。然而，由于当前硅半导体允许的功耗和晶体管密度的基本限制，摩尔定律预测的缩放应该很快就会结束。我们正在达到遵循摩尔定律的能力的尽头；使电子晶体管尽可能小。目前的工作是向展示启用 3D 光子电路所需的光学特性迈出的一步。因为光的移动速度比电子快得多，所以理论上 3D 光子电路会比传统电路快得多。